Intel presenta el equipo de reducción de litografía EUV High-NA

Intel compartió en su perfil oficial de YouTube un vídeo de “unboxing” de los nuevos equipos EUV High-NA (lentes de alta apertura numérica) que se utilizarán para avanzar en los procesos de fabricación de chips en litografía reducida. El Twinscan EXE:5000 es la primera de las 10 herramientas que equiparán las fundiciones de Intel, permitiendo reducir la litografía de los chips por debajo de los 2 nm.

La compra de herramientas ASML (Litografía Avanzada de Materiales Semiconductores) se completó en diciembre y ya se entregó el primer escáner. Incluso teniendo en cuenta el tiempo necesario para configurar el EXE:5000, el vídeo es un hito simbólico en la producción de nodos de silicio cada vez más pequeños y, hasta la fecha, Intel es uno de los primeros fabricantes que ha adquirido herramientas para ello.

Carrera por litografías más pequeñas

Uno de los mayores desafíos para los fabricantes de semiconductores es reducir las dimensiones de los componentes integrados, que ya son microscópicos. Esto se debe a que reducir el tamaño implica aumentar el área útil de los chips, permitiendo incorporar más tecnologías, además de reducir también el consumo energético, algo imprescindible para la nueva Era de la IA.

Otro punto importante es que las litografías reducidas son cruciales para el uso de estructuras modulares, permitiendo la creación de hardware cada vez más complejo mediante la combinación de chiplets especializados de diferentes tamaños. Los nuevos procesadores Meteor Lake ya utilizan el proceso de fabricación Intel 4, equivalente a 4 nm.

La proyección de la compañía es, a finales de 2024, estar lista para fabricar chips mediante el proceso Intel 18A, equivalente a 1,8 nm, y comenzar la producción a gran escala a partir del segundo semestre de 2025. Por mucho que Samsung y TSMC también lo estén. En camino de entregar su silicio de menos de 3 nm, Intel ha adquirido más de la mitad del stock para finales de 2025 de escáneres capaces de imprimir circuitos con tanta precisión.